高纯钽-宏钜金属-高纯钽颗粒 钽靶材

名 称：钛

符 号：Ti

原子量：47.88

熔 点：1668℃

沸 点：3277℃

密 度：4.506g/cm3    

   高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛，主要制备方法有：碘化法，熔盐电解法，电子束熔炼法，电子束区熔法等。

   高纯钛主要用于半导体材料，溅射靶材，高纯钽颗粒现货供销，合金材料及**高真空装置中的吸气材料。

我公司可提供4N5，5N高纯钛，采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒，用于高纯度合金熔炼，蒸发镀膜等领域。

   高纯钛靶材    高纯钛粉末    高纯钛颗粒 高纯钛棒状    高纯钛丝状    高纯钛片状

   我们可提供钛氧化物，氮化物及其他化合物靶材，粉末等。

溅射靶材：二氧化钛靶材，氮化钛靶材，钛酸锶晶体靶材，钛酸钡靶材等

光学镀膜材料：二氧化钛颗粒，高纯钽颗粒 钽靶材，五氧化三钛晶体颗粒等化合物及合金氧化钛TiO2

氮化钛TiN    硼化钛TiB2    钛酸锶SrTiO3    钛酸钡BaTiO3    钛铝合金Ti-Al    钛硅合金    钛钨合金

名 称：镍

符 号：Ni

原子量：58.69

熔 点：1455℃

沸 点：2732℃  

密 度：8.908g/cm3    

高纯镍是指纯度在4N以上的金属镍，主要制备方法有：羰基法，电解熔炼法，浸出精炼法等。

高纯镍具有良好的延展性，高纯钽颗粒定制-研究用高纯钽粒，中等硬度，有铁磁性，化学性质较活泼。主要用于溅射靶材，磁性薄膜，特殊电子材料和合金材料等行业！

我公司可提供5N高纯镍，采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒，用于高纯度合金熔炼，蒸发镀膜等领域。

高纯镍  Ni  4N 4N5 5N  靶材

高纯镍  Ni  3N  粉末  3um-200目

高纯镍  Ni  4N 5N  棒状 圆台状  φ3*6mm 6*6mm 可定制

高纯镍  Ni  3N5 4N 丝状  φ0.1-5mm

高纯镍  Ni  3N 4N5  箔片状  0.03-10mm    

镍基合金是非常重要的合金材料，其中典型的有镍铬合金，镍铁合金，镍铬钴合金，高纯钽，铜镍合金，钛镍合金等。常规材料如下：

另外我们还可以提供氧化镍粉末及氧化镍靶材！

镍铁合金(坡莫合金）NiFe

NiFe20  3N靶材 颗粒

镍铬合金  NiCr20  3N 3N5  靶材 颗粒

镍钒合金  NiV7  3N  靶材 颗粒

氧化镍  NiO  4N  靶材 粉末 -200目

名 称：锑

符 号：

原子量：121.75

熔 点：630.7℃

沸 点：1587℃  

密 度：6.68g/cm3

金属锑外表呈银白色，断面呈紫蓝色金属光泽。性脆，易碎，无延展性。

高纯锑是指5N以上的金属锑。具有良好的导电性及半导体性能。

   高纯锑靶材    4N    

  高纯锑      4N  粉末  -60目

  高纯锑颗粒    4N-6N  颗粒  1-10mm

   高纯锑棒状    4N-6N  棒状

   锑的金属间化合物用途非常广泛，可形成锑化铟，锑化jia，锑化铝等化合物半导体，主要应用于半导体工艺上，也可作为硅，锗的掺杂剂。也可作为合金使用，如金锑合金，锡锑合金等。