镍盐浓度的影响不是很主要的,次亚磷酸钠的浓度提高,速度也会相应提高,但是到了一定限度以后反而会使速率下降。每还原lmol的镍,需消耗3mol的次磷酸盐(即1g镀层消耗5.4g的次亚磷酸钠)。
化学镀镍的沉积速度受温度、pH值、镀液组成和添加剂的影响。通常温度上升,沉积速度也上升。每上升10℃,速度约提高2倍。
常用的有醋酸盐缓冲体系,也有用柠檬酸盐、羟基乙酸盐、乳酸盐等。络合物可以在镀液pH值增高时也保持其还原能力。当调整多次使用的镀液时,这一点很重要,因为在陈化的镀液里,亚磷酸的积累会增加,如果没有足够的络合剂,镀液的稳定性会急剧下降。
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化学镀也叫无电解镀,是指在一定条件下,水溶液中的金属离子被还原剂还原,并且沉淀到固态基体表面的过程。这一过程与置换镀不同,其镀层是可以不断增厚,且施镀金属本身也具有催化能力。
随着技术的发展,化学镀目前也包括多种的类型,下面就来分析一下我们常见的化学镀铜与化学镀镍。
分析内容
在金属材料上的化学镀铜和化学镀镍有许多共同的优点:如在复杂的工件上能产生比较均匀的镀层;在尖锐与凹槽部位不会产生过厚的镀层;镀层孔隙少;具有特殊的化学、力学和磁的性能等。
另外,它们还各自具有其特点:化学镀铜成本较低,得到的镀层具有延展性好、结合强度高、后续电镀加厚方便等优点。但是化学镀铜溶液维护较困难,稳定性差,而且镀层表面容易出现氧化铜层,这对后续电镀层的结合有不良的影响,如需要光亮层时,必须加镀光亮铜。
化学镀镍则可以简化电镀工艺,尤其采用胶体钯直接活化时更是如此,化学镀镍层上可直接进行光亮镀镍加厚。化学镀镍溶液较化学镀铜溶液稳定,沉积速度快,其缺点是易钝化,镀层塑性较铜层差,成本比化学镀铜高。
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