上海高精密薄膜电阻供应商
深圳市贝皓睿科技有限公司
  • 所在区域:广东深圳福田区
  • 经营性质:外商独资企业
  • 企业类型:经销批发
  • 注册地:深圳市福田区
  • 主营产品:合金电阻,0.5%精密电阻,0.1%精密电阻,高精密电阻,薄膜电阻,低温漂电阻
  • 注册资金:人民币 100 万元以下
  • 企业已认证
  • 个人实名未认证
    “上海高精密薄膜电阻供应商”详细信息
产品规格: 不限 产品数量: 9999.00 个
包装说明: 不限 价格说明: 不限
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品牌: 贝皓睿 性能: 通用
数量: 1000000 是否出口:
销售地区: 全国


深圳市贝皓睿科技有限公司

什么是薄膜电阻?
采用薄膜技术制备的电阻。用诸如真空蒸发、磁控溅射等工艺方法,将具有一定电阻率的材料沉积在绝缘基体上,形成具有一定厚度的导电膜层,如碳膜、金属膜(NiCr、TaN2、SiCr等)、金属氧化膜等。
膜式电阻,为关键的工艺,是电阻膜层制备。
平常所说的薄膜电阻,指的是片式薄膜电阻器(Thin Film Resistor)。
电阻膜层厚度<1μm的膜称为薄膜;厚度>10μm的膜称为厚膜。

薄膜电阻种类
  1、碳膜电阻器
碳膜电阻碳膜电阻(碳薄膜电阻)为早期也普遍使用的电阻器,利用真空喷涂技术在瓷棒上面喷涂一层碳膜,再将碳膜外层加工切割成螺旋纹状,依照螺旋纹的多寡来定其电阻值,螺旋纹愈多时表示电阻值愈大。后在外层涂上环氧树脂密封保护而成。其阻值误差虽然较金属皮膜电阻高,但由于价钱便宜。碳膜电阻器仍广泛应用在各类产品上,是目前电子,电器,设备,资讯产品之基本零组件。
2、金属膜电阻器
金属膜电阻金属膜电阻(金属拍摄电阻)同样利用真空喷涂技术在瓷棒上面喷涂,只是将炭膜换成金属膜(如镍铬) ,并在金属膜车上螺旋纹做出不同阻值,并且于瓷棒两端度上贵金属。虽然它较碳膜电阻器贵,但低杂音,稳定,受温度影响小,精确度高成了它的优势。因此被广泛应用于音响器材,电脑,仪表,*及太空设备等方面。
3、金属氧化膜电阻器
某些仪器或装置需要长期在高温的环境下操作,使用一般的电阻会未能保持其安定性。在这种情况下可使用金属氧化膜电阻(金属氧化膜电阻化物薄膜电阻器) ,它是利用高温燃烧技术于高热传导的瓷棒上面烧附一层金属氧化薄膜(用锡和锡的化合物喷制成溶液,经喷雾送入500~500℃的恒温炉,涂覆在旋转的陶瓷基体上而形成的。材料也可以氧化锌等) ,并在金属氧化薄膜车上螺旋纹做出不同阻值,然后于外层喷涂不燃性涂料。其性能与金属膜电阻器类似,但电阻值范围窄。它能够在高温下仍保持其安定性,其典型的特点是金属氧化膜与陶瓷基体结合的更牢,电阻皮膜负载之电力亦较高。耐酸碱能力强,抗盐雾,因而适用于在恶劣的环境下工作。它还兼备低杂音,稳定,高频特性好的优点。
4、合成膜电阻器
将导电合成物悬浮液涂敷在基体上而得,因此也叫漆膜电阻。由于其导电层呈现颗粒状结构,所以其噪声大,精度低,主要用他制造高压, 高阻, 小型电阻器。

组织结构:
一般来讲,电阻薄膜中多含有三类相位成分:绝缘相、半导体相和导电相。在现代的电阻薄膜中,这些相常呈微细分布,有的甚至是成分子线度分布的,这是因为粗分散结构会使薄膜性能不佳。
按照导电相或半导体相在电阻薄膜中的微细分布来说,这类薄膜的结构可能有三种:岛状结构、网状结构和连续结构。所谓岛状结构,是指导电微粒成孤岛状细分散于薄膜内,因而各微粒均被绝缘相所包围。网状结构是导电微粒已经互相连接成导电网络,在网络孔眼内是绝缘相。连续结构是导电微粒已经紧密堆积成连续薄膜,其中已很少含有绝缘相。在岛状结构中,小岛线度和岛间距离都是随机分布的,随着薄膜厚度的增加,小岛线度变大,岛间距离变小。具有岛状结构的电阻薄膜有很薄(厚度小于20nm)的金属薄膜和绝缘相很多(体积分数大于50%)的金属陶瓷薄膜。对于后一类薄膜,随着绝缘相所占比例的增多,导电小岛变小,岛间距离增大。在网状结构中,导电微粒相互连接成复杂的三维导电网络。网络的导电链密度及粗细都随着导电相所占比例的上升而增加。在连续结构中,虽然导电粒子紧密堆积,但是难免含有微量气隙(绝缘相)。薄膜的质量密度小于相应的块状材料就是含有气隙的例证之一。除了气隙以外,在薄膜的某些微区还可能含有固体绝缘相。因此薄膜的实际导电厚度常小于它的几何厚度。
综上所述,实际制备的电阻薄膜通常是含有导电相、半导体相和绝缘相的混合物薄膜。此外,各相也不一定是单一的物质。
另外,连续结构的电阻薄膜还常是各层成分不完全相同的多层复合薄膜,这是由于在制膜过程中及以后的热处理中,周围气氛中有关气体浓度的变化、基片-薄膜界面处的物理扩散和化学反应、薄膜表面层中的扩散和反应,还有特意安排的制造多层复合薄膜的工艺。现在常见的层状复合电阻薄膜多为三层结构,底层(界面层)为使薄膜与基片匹配,并强化其附着,中层是电阻薄膜主体层,上层(表面层)为防潮、耐热等保护层。除了这些目的以外,有时还为了调整或改善薄膜的电性能,也采用层状结构。例如,为了降低电阻率温度系数的值,可使电阻薄膜的下层电阻率 ρ大,TCR 为负值,而使上层的电阻率ρ 小,TCR 为正值。需要指出,在电阻薄膜的各层之间常常是没有突变的界面,而是渐变的界面。层状结构的薄膜是在制膜过程及其后工序的热处理中,由控制工艺而形成的,而不是各层单独制造的。在薄膜的组织结构中,还有导电晶粒是否择优取向的问题。若是导电晶粒在电阻率上是各向异性的,显然晶粒择优取向的薄膜在长期稳定性上优于晶粒无取向的薄膜。

电材料分类
目前,制作电阻薄膜的材料有许多,包括**属、金属合金、金属化合物或金属陶瓷(陶瓷和金属的组合)等,但单片模拟集成电路和薄膜混合电路中广泛使用的材料有三种:镍铬、铬硅和铬硅氧化物金属陶瓷,其中镍铬属于低阻类材料,而铬硅和铬氧化硅属于高阻类材料。按照组成材料的不同,常用薄膜类电阻材料分为三种,镍铬、铬硅和铬一氧化硅
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