产品规格: | 台 | 产品数量: | 999.00 台 |
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包装说明: | 箱 | 价格说明: | 不限 |
查看人数: | 22 人 | 本页链接: | https://info.b2b168.com/s168-253284429.html |
公司编号: | 23095303 | 更新时间: | 2024-04-28 17:31:30 |
规格: | 台 |
小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD
是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。
正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。
(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远
低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。