河北本地槽式清洗设备供应商家 江苏芯梦半导体设备供应

江苏芯梦半导体设备有限公司

关键应用；

前清洗；用于炉管前清洗工艺 清洗液 DHF +SPM + SC1 + SC2 + IPA dry

RCA清洗；用于RCA清洗工艺 清洗液 DHF +SPM +SC1 +SC2 +IPA dry

湿法去胶；用于干法刻蚀工艺后光刻胶去除工艺 清洗液 DHF +SPM + SC1 +IPA dry

氧化物湿法刻蚀；用于氧化物湿法刻蚀或去除工艺 清洗液 HF or BOE +SC1+IPA dry

氮化硅膜层去除；用于氧化硅膜层湿法去除工艺，并控制SIN/oxide选择比 清洗液 DHF+H3PO4+SC1+IPAdry

前段poly/oxide去除；用于控片回收处理，剥离去除不同的金属或非金属膜层 清洗液 HF/HNO3 +HF + SC1 + SC2 +IPA dry

后段金属膜层去除； 用于控片回收处理，剥离去除不同的金属或非金属膜层 清洗液SPM +HF +SC1 +IPA dry 芯梦半导体专注品质，从不将就！河北本地槽式清洗设备供应商家

随着半导体集成电路制程工艺节点越来越先进，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益凸显。清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小，半导体对杂质含量越来越敏感，而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、**物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响，实际生产中不仅需要提高单次的清洗效率，还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗，清洗步骤约占整体步骤的33％。兆声能量是目前使用的清洗方法。在附加了兆声能量后，可大幅降低溶液的使用温度以及工艺时间，而清洗效果更加有效。常用兆声清洗的频率为800kHz—1MHz，兆声功率在100一600W。相对于超声清洗，兆声清洗的作用更加温和。应根据需要去除的颗粒大小及晶圆表面器件能承受的冲击力，选用合适的振动频率。一般兆声清洗适于颗粒大小为0.1~0.3μm，超声清洗适于颗粒大小在0.4μm以上。河南集成电路槽式清洗设备厂家直销江苏芯梦是您身边专业的槽式清洗设备制造商！

晶圆槽式清洗设备通常包括以下主要组成部分：

清洗槽：清洗槽用于在特定的清洗液中对晶圆进行清洗。不同的清洗槽可以用于去除不同类型的污染物，如**物、无机盐等。清洗槽通常配备搅拌装置，以确保清洗液在槽内均匀分布，提高清洗效果。

漂洗槽：漂洗槽用于对晶圆进行漂洗，去除清洗液残留和离子污染。漂洗槽通常使用高纯度的去离子水（DI水）进行漂洗，以确保晶圆表面的纯净度。

干燥槽：干燥槽用于将清洗后的晶圆进行干燥，以去除残留的水分。干燥槽通常使用热空气或氮气流进行干燥，以确保晶圆表面干燥和无尘。

控制系统：晶圆槽式清洗设备配备先进的控制系统，用于监测和控制清洗过程的各个参数，如清洗液的温度、流量、浓度等。控制系统可以实现自动化操作，并提供数据记录和报警功能。

运载系统：晶圆槽式清洗设备通常配备自动化的运载系统，用于将晶圆从一个槽转移到另一个槽，并控制处理步骤的顺序和时间。运载系统可以确保晶圆的安全和稳定传递，减少人为误差。

气体供应系统：清洗过程中可能需要供应气体，如氧气、氮气等，用于调节清洗液的成分和pH值，或者用于干燥晶圆。晶圆槽式清洗设备配备了气体供应系统，包括气体输送管道、压力控制装置和喷嘴等。

晶圆槽式清洗设备是在半导体和电子制造领域中使用的设备，用于对晶圆（也称为硅片）进行清洗和表面处理，以确保其质量和可靠性。该设备采用多槽设计，每个槽都有不同的功能和处理步骤，以满足不同的清洗要求。

晶圆槽式清洗设备具有高度自动化、多槽设计和灵活性，可根据不同的清洗要求进行定制。它们广泛应用于半导体制造、集成电路生产、光伏产业等领域，以确保晶圆的质量和表面纯净度，满足品质和高性能产品的要求。

总的来说，晶圆槽式清洗设备具有多槽设计、自动化操作、温度控制、搅拌和超声波功能、气体供应系统、高纯水供应和可定制性等特点，以满足半导体行业对晶圆清洗的高要求。

芯梦槽式清洗设备配备快速调整功能，适应不同使用场景！

槽式湿法刻蚀清洗设备

设备类型:Cassetteless-type

晶圆尺寸:300mm

设备配置:8~12个槽体2~6个Robot(可定制)可搭载先进超声波兆声波槽体过温保护,各Module配置漏液传感器多级Wafer保护措施支持化学液CCSS/LCSS自动换酸,自动补液、配液( 可兼容多种浓度配比)先进Marangoni干燥加热控制，浓度控制，流量控制，压力控制化学液/水,直排&回收

可靠性能；Uptime>95% Breakage<1/100000 MTBF>650 hours MTTR<3 hours

软件控制:PC+PLC+GUI 控制,支持Schedule、EAP、FDC等功能 芯梦槽式清洗设备采用高效节能技术，助你节约能源开支！河南集成电路槽式清洗设备厂家直销

我司槽式清洗设备结构稳固，性能可靠，是你的生产好帮手！河北本地槽式清洗设备供应商家

晶圆槽式清洗设备通常具有以下特点：

高效清洗：晶圆槽式清洗设备可以实现高效的清洗过程，可以同时处理多个晶圆，提高生产效率。自动化控制：

设备通常配备自动化控制系统，可以实现晶圆的自动装载、清洗、漂洗和卸载，减少人工干预，提高生产效率和一致性

多功能性：晶圆槽式清洗设备通常具有多种清洗工艺和清洗溶液选择功能，可以适应不同类型晶圆和清洗要求。

高精度：设备具有高精度的晶圆定位和清洗控制系统，可以确保清洗过程的精度和一致性。

适用性广：晶圆槽式清洗设备可以适用于各种尺寸和材质的晶圆，满足不同工艺的需求。

可靠性和稳定性：设备通常具有稳定可靠的清洗性能和系统稳定性，确保清洗效果和生产连续性。 河北本地槽式清洗设备供应商家