“供应MDA-400M型紫外曝光机/光刻机”详细信息
产品规格: |
MDA-400M |
产品数量: |
不限 |
包装说明: |
原装 |
价格说明: |
优惠 |
查看人数: |
372 人 |
本页链接: |
https://info.b2b168.com/s168-3877520.html |
武汉迈可诺科技有限公司
MYCRO韩国制造的紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。
曝光机/光刻机系统组件:
紫外光源构造
带托盘的晶片工作台
配CCD镜头的显微镜
监视器
掩膜夹具
紫外光源透镜
紫外光源镜片
紫外灯电源系统
操作控制器
350W紫外灯
曝光机/光刻机参数:
晶片台
基底尺寸 标准尺寸 较大至4英寸;可选较大至6英寸;
托盘 标准尺寸 较大至4英寸;可选较大至6英寸;
活动范围
X:10mm Y: 10mm Z : 10mm Theta: 4 degree
对准精度 1um
挤入补偿 Air bearing型
Z轴滑动 手动
真空泵 无油真空泵
掩膜台
掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取
紫外光源
紫外灯 350 瓦
均匀光束大小 4.25“ X 4.25“
曝光模式 压缩/真空/相邻
曝光时间控制 可编程控制型
曝光定时器 1 ~ 999.9 秒
欢迎来到武汉迈可诺科技有限公司网站,我公司位于历史文化悠久,近代城市文化底蕴深厚,历史古迹众多,有“东方巴黎”美称的上海市。 具体地址是
上海徐汇徐家汇上海市徐汇区,联系人是叶盛。
主要经营匀胶机,旋涂仪,甩胶台,匀胶台,涂层机,涂胶机,涂膜机,旋转涂敷仪, 等离子清洗机,光刻机/曝光机,压力机, 压片机, 热压机,WABASH热压机, CARVER热压机,LAURELL匀胶机、HOT **TE热板 烤胶机 Laurell匀胶机 SPS匀胶机 Harrick等离子清洗机 Diener等离子清洗机。
单位注册资金单位注册资金人民币 100 万元以下。
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