广州医药**纯水设备、广州金天水、广州医药**纯水设备供应商

工业纯水应用领域和指标要求参考（一）：      —— EDI**纯水设备

1、用途：单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产

      用水指标：电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

      参考标准：我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997

                      美国半导体工业用纯水指标

2、用途：单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业

      用水指标：电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

      参考标准：美国半导体工业用纯水指标

                      我国电子级水质技术指标，广州医药**纯水设备价格，GB11446-1-1997

3、用途：光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水

     用水指标：电阻率 10 ~17 MΩ.CM

      参考标准：我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997       —— EDI**纯水设备

                      美国半导体工业用纯水指标

EDI的给水处理    —— EDI**纯水设备

　　给水预处理对于EDI及其重要，组件的寿命、性能及维修量都取决于给水中的杂质含量，广州医药**纯水设备供应，如果给EDI提供较好的预处理水，组件的清洗率将会降低。EDI浓水一部分循环（当给水硬度低、电导率时，广州医药**纯水设备报价，可以不循环），另外一部分可以返回到反渗透给水中，广州医药**纯水设备，也可以回收作为他用或直接排至下水道。

EDI的组件结构

1．淡水室：将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成淡水单元。

2．浓水室：用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。

3．较水室。

4．绝缘板和压紧板。

5．电源及水路连接。

可以将EDI并联运行，可取得更大流量。   —— EDI**纯水设备

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