高纯Ti钛靶 金属靶材 溅射靶材 高纯钛靶

高纯钛靶
化学符号：Ti
纯 度：4N，5N
规 格：Φ50.8*5、Φ76.2*5其他规格可根据客户需求定做！
原子量：47.867
密度：4.5g/cm3 
熔点：1700℃
沸点：3287℃ 
临界温度：4350℃
电阻率/μΩ.cm：43～47 
线膨胀系数/℃-1:8.5×10-6
汽化温度/℃：1577 
电阻温度系数/℃-1:3.50×10-3
波长/nm：630 
折色率n：2.9
消光系数k：3.3 
反射率/%：55.6
蒸发温度：饱和蒸汽压为1.33Pa时为1750 
蒸发源材料：(W、Ta)(丝、片)，（C、ThO2）坩埚
特点：机械强度大，有良好的可塑性，容易加工，有良好的抗腐蚀性能。
用途：主要用作半导体材料和**高真空装置中的吸气材料。
注:
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。
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