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离子镀膜与蒸发镀膜和溅射镀膜在原理和工艺上相比较,具
有如下几个**的特点:
(1)黏着力好,镀层不易脱落:这是因为离子轰击会对基片产
生溅射作用,使基片不断地受到清洗从而提高了基片的黏着力,同
时由于溅射使基片表面被刻蚀而使表面的粗糙度有所增加。离子
镀层黏着力好的另一个原因是由于轰击的离子所携带的动能变为
热能,从而对基片表面又产生了一个自加热效应,这就提高了基片
表面层组织的结晶性能而促进了化学反应和扩散作用。
将样品置于密闭的反应器中,外面的加热炉保持所需要的反
温度(700~1100℃)。TID由H2载带,途中和CH4(或N2等)混
,再一起涌入反应器中。反应中产生的残余气体在废气处理装
中一并排放掉,白坭真空镀膜机,反应在常压或66661~133322Pa(50~100托)
低真空下进行,通过控制反应器的大小、反应温度压力和气体的
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组分等,得到较1佳的工艺条件。
上述方法与其他的液相、气相外延生长方法相比较具有如下
:
(1)生长温度低,因而可做成突变结,全自动真空镀膜机,也可做成缓变结。
(2)生长速度慢,反光杯真空镀膜机,可以任意选择,可以生长**薄而平整的
。
(3)在生长过程中,同时可精1确地控制生长层的厚度、组分和
分布、生长的表面和界面具有原子尺度的平整度,结合适当的
,可以生长二维和三维图形结构。
(4)在同一系统中可以原位观察单晶薄膜的生长过程,进行
、生长的机制分析研究,也避免了大气污染的影响。