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蒸镀

在蒸镀阶段要选择合适的基片温度、镀料蒸发温度外，沉积气压是一个很重要的参数。沉积气压即镀膜室的真空度高低，决定了蒸镀空间气体分子运动的平均自由程和一定蒸发距离下的蒸气与残余气体原子及蒸气原子之间的碰撞次数。

蒸镀取件

膜层厚度达到要求以后，太仓蒸镀设备，用挡板盖住蒸发源并停止加热，吴江蒸镀设备，但不要马上导入空气。

蒸镀设备

真空蒸镀装置由真空抽气系统和蒸发室组成。

真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别

真空镀膜材料技术与湿式镀膜材料技术相比具有明显优点：

   1、膜材和基体选材广泛，膜的厚度可以进行控制以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。

   2、真空条件下制备薄膜，蒸镀设备，环境清洁，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。

  3、与基体附着强度好，膜层牢固。

  4、真空镀膜既不产生肺液也无环境污染。真空镀膜技术在电子学等方面主要用来制造电阻和电容元 件。

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