产品规格: | 不限 | 产品数量: | 不限 |
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真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发,直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。
主要特点/优势:
★ 完全封闭的系统框架设计,外观更漂亮,常州蒸镀设备,使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;
★ 前开门真空腔体,蒸镀设备,方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;
★ 1200L/s分子泵作为主抽泵,真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr);
蒸镀
镀前准备
镀膜室抽真空到合适的真空度,对基片和镀膜材料进行预处理。加热基片,其目的是去除水分和增强膜基结合力。在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附。然后经真空泵抽气排出真空室,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。然后达到一定真空度后.先对蒸发源通以较低功率的电,进行膜料的预热或者预熔,南京蒸镀设备,为防止蒸发到基板上,用挡板遮盖住蒸发源及源物质,然后输入较大功率的电,将镀膜材料迅速加热到蒸发温度,蒸镀时再移开挡板。
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