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蒸镀
在蒸镀阶段要选择合适的基片温度、镀料蒸发温度外,昆山蒸镀设备,沉积气压是一个很重要的参数。沉积气压即镀膜室的真空度高低,决定了蒸镀空间气体分子运动的平均自由程和一定蒸发距离下的蒸气与残余气体原子及蒸气原子之间的碰撞次数。
蒸镀取件
膜层厚度达到要求以后,蒸镀设备,用挡板盖住蒸发源并停止加热,上海蒸镀设备,但不要马上导入空气。
蒸镀设备
真空蒸镀装置由真空抽气系统和蒸发室组成。
真空蒸镀
装置由真空抽气系统和蒸发室组成。真空抽气系统由(**)高真空泵、低真空泵、排气管道和阀门等组成。此外,蒸镀设备,还附有冷阱(用以防止油蒸气的返流)和真空测量计等。蒸发室大多用不锈钢制成。在蒸发室内配有真空蒸镀时不可缺少的蒸发源、基片和蒸发空间。此外,还置有控制蒸发原子流的挡板,测量膜厚并用来监控薄膜生长速率的膜厚计,测量蒸发室的真空变化和蒸发时剩余气体压力的(**)高真空计,以及控制薄膜生长形态和结晶性的基片温度调节器等。
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