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。在明区，由于光照使光导层（硫化镉）的电阻率大大降低，成为导体。原先驻留在光导层与绝缘层界面的负电荷（电子），随着绝缘层表面的正电荷被二次负电晕中和的同时，通过光导层向接地的导电基体泄逸。因此，明区的表面电位*下降至0伏左右。在暗区，则由于光导层（硫化镉）未受光照，基电阻率仍然很高（即保持绝缘状态）使得驻留在光导层与绝缘层界面的负电荷不能向导电基体方向泄逸。绝缘层表面正电荷受基影响，即由于绝缘层下面负性电荷的吸引，使得消电电晕只能中和掉一部分表面正电荷，大部分正电荷仍然保留在感光鼓暗区表面。此时，由于表面正电荷数量的减少

，在绝缘层下面的负电荷多于绝缘层表面的下奄荷，因此在导电基体与光导层界面处又感应出正电荷（导电基体侧），基数量与表面正电荷减少的数量相等，以达到正负电荷量的平衡。虽然在感光鼓暗区仍保留有大部分表面电荷，但由于暗区仍保留大部分表面电荷，但由于暗区表面电位低于光导层的电位，因此仍未形成适用的静电潜像。也就是说，二次充电/图像曝光的结果，使得无论是在感光鼓的明区还是暗区，表面电位都已降为零电位，没有形成电位反差。

4、全面曝光

经过图像曝光、二次充电（逆充电）后，在硫化镉感光鼓的表面形成了表面电位相同、电荷密度不同的潜像，这种潜像是无法用传统的静电显影方式来显影的。为了把这种电荷密度潜像表面电位起伏的静电潜像，必须对感光鼓表面进行全面曝光。

全面曝光就是利用曝光灯对感光鼓表面进行全面、充分、均匀的光照，使感光鼓光导层（硫化镉）的电阻率下降成为电的良导体。对于明区由于二次充电/图像曝光时就已失去全部电荷，故全面曝光对基不发生任何作用，其表面电位不变；对于暗区，由于全面曝光使得绝缘层下面的光导层变为导体，使光导层与绝缘层界面处多余的负电荷穿过光导膜层与导电基体感应上来的一部分负电荷则因有绝缘层表面正电荷的吸引，继续保持平衡状态。这样在感光鼓绝缘层表面和导电基体间就形成电位差，较终使得感光鼓绝缘层表面“暗区”的电位*升高。

因此，全面曝光的结果，使得感光鼓明区和暗区形成了明显的电位差，较终在感光鼓绝缘层表面上形成了表面电位随光学图像明暗变化的高反差静电潜像。

5、显影

NP静电复印法使用单组分显影剂跳动显影。单组分显影剂中没有载体，基色粉粒子由磁性材料、炭黑和树脂等组成，具有磁性和绝缘性。绝缘性有助于色粉的转印，磁性便于用显影磁辊来运载色粉。显影时，色粉与旋转的显影磁辊相摩擦