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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响： 

基体温度：镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力，温度可用T/Tm值来确定，如；靶材为钛，其熔点为1670℃，五十铃车灯杯加工，基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒组织。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升，基体可选在250-300℃

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真空镀膜之多弧离子镀 ：

部分离子对阴极的轰击又使阴极斑点局部快速蒸发并在空间迅速离化，使这些阴极弧斑点变成微小蒸发源，五十铃车灯杯价格，这些微小蒸发源在磁场和屏蔽绝缘的作用下束缚在阴极靶面做无规则运动，珠海五十铃车灯杯，从而形成大面积均匀的蒸发源，五十铃车灯杯定做，喷发出电子、离子、熔融的金属材料和原子。大部分是离子和熔融粒子，在偏压作用下，离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。

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